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潔凈棚具備多種潔凈等級及空間搭配可以根據(jù)使用需求設(shè)計制作，因此其簡便運用彈性大安裝容易且施工期短以及可移性為其主要特點，潔凈棚同時可針對在一般等級的潔凈室中部地區(qū)需要高潔凈度的地方做部增設(shè)以降低成本。潔凈棚是一種可提供局部高潔凈環(huán)境的空氣凈化設(shè)備。潔凈棚主要由箱體、風(fēng)機、初效空氣過濾器、阻尼層、燈具等組成，外殼噴塑。該產(chǎn)品既可懸掛，又可地面支撐，結(jié)構(gòu)緊湊，使用方便?？梢詥蝹€使用，也可多個連接組成帶狀潔凈區(qū)域。？潔凈室的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。

　　濕度過高產(chǎn)生的問題更多，相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高，粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。

　　具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為操作人員出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25